За да получим устройства с по-добра производителност, се нуждаем от по-малки чипове. Изследователите са разработили и произвели нов чип, който е позволил пускането на пазара на ново поколение високопроизводителни смартфони.
Те използваха най-съвременната екстремна ултравиолетова (EUV) литография и нови материални процеси, за да превърнат по-малките полупроводници в търговска реалност.
Колкото по-малък е полупроводникът, толкова повече от тях можете да поставите в електронни устройства – и толкова по-висока производителност и енергийна ефективност е тази електроника.
В този смисъл полупроводниците са изминали дълъг път. През 1968 г. те измерват 20 хилядни от милиметъра, или 20 000 нанометра (nm). Днешните масово произвеждани полупроводници могат да бъдат само 10 и 14 nm – но изследователите непрекъснато се стремят да ги направят още по-малки.
Тази революция в размера е това, което подхранва закона на Мур, който предвижда, че броят на транзисторите на микрочипа ще се удвоява приблизително на всеки две години. Това се случва от десетилетия и означава, че нашите смарт устройства стават все по-мощни с всяко поколение.
Въпреки че съществува технология за производство на все по-малки полупроводници, производството им по рентабилен начин, който може да бъде рационализиран за масово производство, е много различно предизвикателство.
За новия чип изследователите разработиха система, която използва изключително късите дължини на вълните на ултравиолетовата светлина на EUV, за да прехвърли модел от непрозрачен шаблон върху светлочувствителен материал върху полупроводника.
Това ръководи отпечатването на интегралната схема. Работата включваше усъвършенстване както на техниката на литография, така и на материалите, използвани в шаблона.
Успешното интегриране на EUV технологията доведе до по-мощна, ефективна и рентабилна електроника.
Прогресът в полупроводниците е от съществено значение за продължаващия напредък на електронните устройства и икономическата стабилност на съвременното общество.
